Phenol, 2,5-dimethyl- (CAS 95-87-4): Leistungssteigerung von Fotorestists
Eine essenzielle Chemikalie für hochwertige Fotorestist-Formulierungen, die eine hochauflösende Halbleiterherstellung ermöglicht.
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2,5-Dimethylphenol
2,5-Dimethylphenol (CAS 95-87-4) ist eine wichtige organische Verbindung, die intensiv im Elektroniksektor, insbesondere in der Formulierung leistungsstarker Fotorestists, verwendet wird. Seine chemische Struktur und Reinheit sind von entscheidender Bedeutung für die Synthese von Novolack-Harzen, die das Rückgrat vieler Positiv-Photoresist-Systeme bilden.
- Hochauflösende Fotorestist-Inhaltsstoffe: Als Schlüsselkomponente in der Novolack-Harz-2,5-Dimethylphenol-Synthese trägt es direkt zur hohen Auflösung für filigrane Halbleiter-Strukturen bei.
- Elektronik-Chemikalien für die Mikrolithografie: Diese Verbindung ist integraler Bestandteil der raffinierten Elektronik-Chemikalien für die Mikrolithografie und unterstützt die Entwicklung kleinerer und leistungsfähigerer Mikroelektronik-Bauelemente.
- Sicherstellung thermischer Beständigkeit in Fotorestists: Die Integration von 2,5-Dimethylphenol in phenolische Mischungen für die Novolack-Synthese erhöht die thermische Beständigkeit in Fotorestists und verhindert Musterdeformation während Hochtemperatur-Prozessen.
- Überlegene Reinheit für anspruchsvolle Anwendungen: Hersteller vertrauen auf den hochreinen 2,5-Xylenol, um in anspruchsvollen Halbleiter-Produktionsumgebungen konsistente und zuverlässige Ergebnisse zu erzielen.
Hauptvorteile
Verbesserte lithografische Leistung
Mit Expertise in 2,5-Xylenol-Fotorestist-Formulierungen gewährleistet diese Chemikalie eine überlegene Auflösung und schärfere Strukturabtastung in der Mikrolithografie – kritisch für fortschrittliche integrierte Schaltkreise.
Verbesserte thermische Stabilität
Der Einsatz von 2,5-Dimethylphenol in Novolack-Harzen erhöht die thermische Beständigkeit in Fotorestists direkt und erlaubt robustere Verarbeitungsfenster während der Halbleiterherstellung.
Konsistenz in der Produktion
Die zuverlässige Lieferung von hochreinem 2,5-Xylenol garantiert Chargen-zu-Chargen-Konsistenz – eine nicht verhandelbare Forderung für kritische Elektronik-Chemikalien für die Mikrolithografie.
Hauptanwendungen
Fotorestistsynthese
Als grundlegendes Bauelement wird 2,5-Dimethylphenol zur Herstellung spezifischer Novolack-Harze verwendet, die entscheidend für die Leistung von Positiv-Photoresists in der Halbleiter-Lithografie sind. Das Verständnis der Wechselwirkung von Novolack-Harz-2,5-Dimethylphenol ist Schlüssel.
Halbleiterherstellung
Unverzichtbar für die Mikrolithografie ermöglicht es die präzise Strukturierung von Schaltkreisen auf Silizium-Wafern und unterstützt die fortgesetzte Miniaturisierung und Komplexität elektronischer Komponenten. Die Untersuchung Halbleiter-Lithografie-Chemikalien beleuchtet seine Bedeutung.
Entwicklung fortschrittlicher Materialien
Diese Verbindung dient als vielseitiges Zwischenprodukt bei der Entwicklung fortschrittlicher Materialien, wobei ihre spezifischen chemischen Eigenschaften für neuartige Anwendungen in der Elektronikindustrie nutzbar gemacht werden.
Chemische Forschung und Entwicklung
Die klar definierten Eigenschaften machen es zu einem wertvollen Reagenz in F&E zur Neuentwicklung von Fotorestist-Zusammensetzungen und zur Erforschung innovativer Anwendungen in der Feinchemie.