Phenol, 2,5-dimethyl- (CAS 95-87-4): Fotorezist Performansını Geliştirme - Üretici Fiyatları
Gelişmiş fotorezist formülasyonları için kritik bir kimyasal, yüksek çözünürlüklü yarı iletken üretimini mümkün kılar.
Fiyat Teklifi & Numune AlınÜrün Temel Değeri
2,5-Dimetilfenol
2,5-Dimetilfenol (CAS 95-87-4), elektronik sektöründe, özellikle yüksek performanslı fotorezistlerin formülasyonunda yaygın olarak kullanılan hayati bir organik bileşiktir. Kimyasal yapısı ve saflığı, birçok pozitif fotorezist sisteminin temelini oluşturan novolak reçinelerinin sentezinde etkilidir.
- Yüksek Çözünürlüklü Fotorezist Bileşenleri: Novolak reçine 2,5-dimetilfenol sentezinde kilit bir bileşen olarak, karmaşık yarı iletken desenleri için gereken yüksek çözünürlüğe doğrudan katkıda bulunur.
- Mikrolitografi İçin Elektronik Kimyasallar: Bu bileşik, sofistike mikrolitografi için elektronik kimyasalların ayrılmaz bir parçasıdır ve daha küçük ve daha güçlü mikroelektronik cihazların oluşturulmasını destekler.
- Fotorezistlerde Termal Direnci Sağlama: 2,5-dimetilfenolün novolak sentezi için fenolik karışımlara dahil edilmesi, fotorezistlerde termal direnci artırır ve yüksek sıcaklıktaki işlemler sırasında desen deformasyonunu önler.
- Talepkar Uygulamalar İçin Üstün Saflık: Üreticiler, zorlu yarı iletken üretim ortamlarında tutarlı ve güvenilir sonuçlar elde etmek için yüksek saflıkta 2,5-xilenol tedarikine güvenmektedir.
Sunulan Temel Avantajlar
Gelişmiş Litografi Performansı
2,5-xilenol fotorezist formülasyonu uzmanlığından yararlanan bu kimyasal, gelişmiş entegre devreler için kritik olan mikrolitografide üstün çözünürlük ve daha net özellik tanımı sağlar.
Geliştirilmiş Termal Stabilite
Novolak reçinelerinde 2,5-dimetilfenol kullanımı, fotorezistlerde termal direncin doğrudan artması anlamına gelir, bu da yarı iletken üretim sırasında daha sağlam işlem pencerelerine izin verir.
Üretimde Tutarlılık
Yüksek saflıkta 2,5-xilenolun güvenilir tedariki, kritik mikrolitografi için elektronik kimyasallar için vazgeçilmez bir gereklilik olan parti bazında tutarlılığı garanti eder.
Temel Uygulamalar
Fotorezist Sentezi
Temel bir yapı taşı olarak 2,5-Dimetilfenol, yarı iletken litografide pozitif fotorezistlerin performansı için kritik olan belirli novolak reçinelerinin oluşturulmasında kullanılır. Novolak reçine 2,5-dimetilfenol etkileşimini anlamak önemlidir.
Yarı İletken Üretimi
Mikrolitografi için gerekli olan bu bileşen, elektronik bileşenlerin sürekli küçülmesi ve karmaşıklığını destekleyerek silikon gofretler üzerinde devrelerin hassas desenlenmesini sağlar. Yarı iletken litografi kimyasallarını incelemek, önemini vurgulamaktadır.
Gelişmiş Malzeme Geliştirme
Bu bileşik, belirli kimyasal özelliklerinin elektronik endüstrisi içindeki yeni uygulamalar için kullanılabildiği gelişmiş malzemelerin geliştirilmesinde çok yönlü bir ara ürün görevi görür.
Kimyasal Araştırma ve Geliştirme
İyi tanımlanmış özellikleri, yeni fotorezist kompozisyonları geliştirmek ve ince kimyasal uygulamalar içindeki yeni kullanımları keşfetmek için Ar-Ge'de değerli bir reaktif olmasını sağlar.
İlgili Teknik Makaleler ve Kaynaklar
İlgili makale bulunamadı.