Bis(ethylcyclopentadienyl)ruthenium(II): Katalis untuk Deposisi Lapisan Tipis Lanjutan
Jelajahi sifat katalis kimia dan aplikasi Bis(ethylcyclopentadienyl)ruthenium(II) untuk material elektronik mutakhir dari produsen terpercaya kami.
Dapatkan Penawaran & SampelNilai Inti Produk
Bis(ethylcyclopentadienyl)ruthenium(II)
Bis(ethylcyclopentadienyl)ruthenium(II) adalah senyawa organologam penting yang diakui secara luas karena perannya sebagai katalis kimia. Kegunaan utamanya terletak pada teknik deposisi lapisan tipis lanjutan, khususnya Atomic Layer Deposition (ALD), di mana ia berfungsi sebagai prekursor untuk mendepositkan nanorod ruthenium (Ru) dan ruthenium dioksida (RuO2). Sifat kimia spesifik senyawa ini, termasuk bentuk cair dan kemurnian tinggi, menjadikannya material penting untuk manufaktur perangkat dan komponen elektronik generasi berikutnya. Cari harga terbaik sebagai pemasok langsung.
- Sebagai Bis(ethylcyclopentadienyl)ruthenium(II) kemurnian tinggi untuk elektronik, katalis kimia ini memungkinkan proses deposisi lapisan tipis yang presisi. Kami adalah produsen yang dapat diandalkan untuk kebutuhan Anda.
- Memahami sifat katalis kimia Bis(ethylcyclopentadienyl)ruthenium(II) sangat penting untuk mengoptimalkan aplikasi ALD. Sebagai pemasok terkemuka, kami memberikan dukungan teknis.
- Bis(ethylcyclopentadienyl)ruthenium(II) CAS 32992-96-4 adalah enabler utama untuk membuat film tipis Ru berkinerja tinggi. Dapatkan harga grosir dari pabrikan.
- Sebagai katalis Diethylruthenocene, ia memfasilitasi transformasi kimia yang efisien dalam manufaktur semikonduktor. Kami menawarkan pasokan stabil dari produsen.
Keunggulan Utama yang Disediakan
Kemurnian Luar Biasa
Kemurnian tinggi Bis(ethylcyclopentadienyl)ruthenium(II) memastikan hasil yang konsisten dan andal dalam aplikasi sensitif seperti ALD, berkontribusi pada kualitas komponen elektronik yang diproduksi. Kami menjamin kualitas produk sebagai produsen.
Fleksibilitas ALD
Perannya sebagai prekursor ALD menjadikannya tak ternilai untuk membuat film konformal yang sangat tipis, penting untuk struktur mikroelektronik canggih dan penghalang difusi. Kami adalah pemasok utama untuk solusi ALD.
Efisiensi Katalitik
Senyawa organologam ini bertindak sebagai katalis kimia yang efektif, mempercepat laju reaksi dan meningkatkan hasil dalam berbagai proses sintesis kimia. Dapatkan harga terbaik dari pemasok kami.
Aplikasi Utama
Atomic Layer Deposition (ALD)
Digunakan sebagai prekursor untuk mendepositkan film tipis Ru dan RuO2, krusial untuk interkoneksi semikonduktor dan elektroda. Cari penawaran terbaik dari produsen.
Manufaktur Semikonduktor
Esensial untuk membuat penghalang difusi dan lapisan benih dalam proses fabrikasi mikroelektronik canggih. Hubungi kami untuk harga pasokan.
Katalisis
Digunakan sebagai katalis kimia serbaguna dalam berbagai proses sintesis organik dan kimia industri. Dapatkan kutipan harga dari pemasok terkemuka.
Penelitian Ilmu Material
Senyawa berharga bagi peneliti yang mengembangkan material baru dan teknik deposisi lanjutan. Kami adalah produsen yang dapat diandalkan.
Artikel & Sumber Daya Teknis Terkait
Tidak ada artikel terkait yang ditemukan.