Bis(Etilciclopentadienil)rutênio(II): Um Catalisador para Deposição Avançada de Filmes Finos
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Bis(Etilciclopentadienil)rutênio(II)
O Bis(Etilciclopentadienil)rutênio(II) é um composto organometálico crítico, amplamente reconhecido por seu papel como catalisador químico. Sua utilidade primária reside em técnicas avançadas de deposição de filmes finos, particularmente Deposição de Camada Atômica (ALD), onde serve como precursor para deposição de rutênio (Ru) e nanorods de dióxido de rutênio (RuO2). As propriedades químicas específicas do composto, incluindo sua forma líquida e alta pureza (97% Min.), o tornam um material essencial para a fabricação de dispositivos e componentes eletrônicos de próxima geração. Busque o melhor preço conosco, seu fornecedor direto de fabricante.
- Como um Bis(Etilciclopentadienil)rutênio(II) de alta pureza para eletrônica, este catalisador químico permite processos precisos de deposição de filmes finos.
- Compreender as propriedades do catalisador químico do Bis(Etilciclopentadienil)rutênio(II) é crucial para otimizar aplicações de ALD.
- O Bis(Etilciclopentadienil)rutênio(II) CAS 32992-96-4 é um facilitador chave para a criação de filmes finos de Ru de alto desempenho.
- Como catalisador Dietilruthenoceno, ele facilita transformações químicas eficientes na fabricação de semicondutores.
Vantagens Chave Oferecidas
Pureza Excepcional
A alta pureza do Bis(Etilciclopentadienil)rutênio(II) assegura resultados consistentes e confiáveis em aplicações sensíveis como ALD, contribuindo para a qualidade dos componentes eletrônicos fabricados.
Versatilidade ALD
Seu papel como precursor ALD o torna inestimável para a criação de filmes ultrafinos e conformais, essenciais para estruturas microeletrônicas avançadas e barreiras de difusão.
Eficiência Catalítica
Este composto organometálico atua como um catalisador químico eficaz, acelerando as taxas de reação e melhorando os rendimentos em vários processos de síntese química.
Aplicações Chave
Deposição de Camada Atômica (ALD)
Utilizado como precursor para deposição de filmes finos de Ru e RuO2, críticos para interconexões de semicondutores e eletrodos.
Fabricação de Semicondutores
Essencial para a criação de barreiras de difusão e camadas semente em processos avançados de fabricação microeletrônica.
Catálise
Empregado como um catalisador químico versátil em várias sínteses orgânicas e processos químicos industriais.
Pesquisa em Ciência de Materiais
Um composto valioso para pesquisadores que desenvolvem novos materiais e técnicas de deposição avançadas.
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