ビス-(ナトリウムスルホプロピル)-ジスルフィド（CAS 27206-35-5）：酸性銅めっき向け、先端光沢・レベリング剤
当社の先端光沢・レベリング剤で、優れた銅めっき品質と仕上がりを実現しませんか。
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ビス-(ナトリウムスルホプロピル)-ジスルフィド（SPS）
ビス-(ナトリウムスルホプロピル)-ジスルフィド（SPS）は、現代の銅めっきプロセスにおいて不可欠な構成要素です。強力な光沢剤として機能し、電析銅の結晶構造を微細化する上で重要な役割を果たします。これにより、銅めっき皮膜の光沢、レベリング性、延性が大幅に向上し、装飾用途および機能性用途、特にエレクトロニクス産業において不可欠なものとなっています。
- 酸性銅浴用の光沢剤として使用され、エレクトロニクスやリチウムイオン電池に不可欠な高品質銅箔の製造に貢献し、めっき電流密度の向上という利点を活用しています。
- 銅めっき皮膜の結晶を微細化する能力により、優れた銅めっき光沢剤性能を実現するための鍵となっています。
- 機能性めっき添加剤として、プリント基板めっきに不可欠な、光沢があり、レベリングされ、延性に富んだ銅めっき皮膜の製造を保証します。
- この化合物は、様々なめっき浴成分との互換性があることで知られており、エレクトロニクス向け表面処理技術において、一貫した優れた結果をもたらします。
本製品が提供する利点
優れた光沢とレベリング性
銅めっきにおける比類なき外観の魅力と表面均一性をご体験ください。この添加剤は、滑らかで光沢のある仕上がりを保証し、装飾めっきにとって重要な利点であり、プリント基板めっきに不可欠です。
物理的特性の向上
銅めっき皮膜の延性向上と結晶粒度の微細化を実現します。これにより、機能性めっき用途に不可欠な、部品の全体的な品質と性能が向上します。
めっきプロセスの効率最適化
めっき電流密度の向上により、この化学薬品は析出プロセスを高速化し、均一なめっき厚さを確保することで、全体的な生産効率を高めます。
主な用途
銅めっき
主要な光沢剤として、結晶構造を微細化し光沢を向上させ、装飾および機能性銅めっきに不可欠です。
プリント基板（PCB）めっき
めっき電流密度の向上能力を活かし、PCBの複雑な回路基板に精密で高品質な銅めっきを実現します。
電子材料・バッテリー
電子機器やリチウムイオン電池製造に使用される高品質銅箔の製造に貢献します。
機能性めっき
結晶微細化と延性の向上を通じて、めっき部品の性能特性を改善します。
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