4-아세톡시스티렌(CAS 2628-16-2): 고급 포토레지스트·중합체 합성용 필수 모노머

차세대 반도체 제조와 고성능 중합체 개발을 이끌 핵심 화학 중간체인 4-아세톡시스티렌을 소개합니다. 다양한 응용 분야 및 우수한 특성 을 지금 바로 확인해 보세요.

4-아세톡시스티렌의 혁신 가능성

4-아세톡시스티렌

4-아세톡시스티렌(CAS 2628-16-2)은 산업 전반의 첨단 소재 제작에 기초를 제공하는 고유한 안정성과 우수한 반응성을 갖춘 스티렌 유도체입니다. 폴리(p-하이드록시스티렌)라는 현대 마이크로일렉트로닉스를 주도하는 화학 증폭 포토레지스트 소재로의 핵심 전구체 역할을 수행합니다. 이 화합물은 제어된 중합에 우수 적합하여, 특수 접착제 에서 강력한 코팅 까지 목적에 맞는 고성능 중합체 개발에 과학자와 재료공학자에게 탁월한 자유도를 제공합니다.

폴리(p-하이드록시스티렌) 전구체: 4-아세톡시스티렌은 반도체 제조의 핵심 소재인 폴리(p-하이드록시스티렌)로 전환되는 필수 전구체입니다.
포토레지스트 핵심 성분: 이 모노머는 포토레지스트를 통해 최첨단 IC 정밀 패터닝에 결정적 역할을 합니다.
중합체 합성 다기능성: 4-아세톡시스티렌 ATRP 와 같은 제어 라디칼 중합을 통해 맞춤형 성능의 중합체를 제작할 수 있습니다.
소재 성능 향상: 4-아세톡시스티렌 중합체 합성으로 고성능 접착제 및 첨단 코팅 소재 개발이 가능합니다.

4-아세톡시스티렌의 핵심 강점

뛰어난 중합체 특성

4-아세톡시스티렌을 폴리프로필렌에 그래프팅하면 직류 비저항 및 절연파괴 강도가 향상되어 첨단 절연용 고전기 특성 소재로 이상적입니다.

정밀 중합 성능

RAFT 중합 4-아세톡시스티렌 과 같은 제어 라디칼 중합 기술을 활용하면 분자량 분포가 매우 협소하고 구조 예측이 가능한 고분자를 얻을 수 있습니다.

다양한 화학 반응 활용성

고유한 구조 덕분에 4-아세톡시스티렌에서 p-하이드록시스티렌 으로의 유도 변환도 자유롭게 이루어져 폭넓은 기능성 소재 및 특수 화학품 합성 원천을 제공합니다.

핵심 응용 영역

반도체 제조

마이크로리소그래피 공정에 필수 기여하며, 4-아세톡시스티렌은 첨단 마이크로칩 생산용 포토레지스트 중합체의 중심 골격을 형성합니다.

첨단 소재 및 코팅

중합체 합성에 활용되며 이 화합물은 보강된 내구성을 갖춘 고성능 접착제 및 보호 코팅에 기여합니다.

에폭시 수지 시스템

경화제로서 4-아세톡시스티렌은 에폭시 수지 성능을 향상시켜 여러 응용 분야에서 강도 및 화학 저항성 을 강화합니다.

특수 화학 생산

다목적 화학 중간체로 기능하며 trans-Resveratrol 3-O-β-D-Glucuronide를 포함한 복잡한 유기 화합물의 합성을 용이하게 합니다.