4-Acetoxiestireno (CAS 2628-16-2): Monômero Essencial para Fotoresistes Avançados e Síntese de Polímeros
Descubra o 4-Acetoxiestireno, o intermediário químico-chave que impulsiona inovações de ponta na fabricação de semicondutores e no desenvolvimento de polímeros de alto desempenho. Explore suas aplicações versáteis e propriedades superiores para seu próximo avanço.
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4-Acetoxiestireno
O 4-Acetoxiestireno (CAS 2628-16-2) é um derivado de estireno altamente versátil e estável, fundamental para criar materiais avançados em diversos setores. Sua estrutura química única o torna precursor indispensável para o poli(p-hidroxiestireno), componente crítico em fotoresistes quimicamente amplificados que impulsionam a microeletrônica moderna. Esse composto se destaca pela capacidade de sofrer polimerização controlada, oferecendo aos químicos e cientistas de materiais flexibilidade sem precedentes no desenvolvimento de polímeros de alto desempenho, desde adesivos especializados até revestimentos robustos.
- Precursor de Poli(p-hidroxiestireno): O 4-Acetoxiestireno é o precursor vital para o poli(p-hidroxiestireno), material essencial para fabricação de semicondutores.
- Componente Core de Fotoresistes: Esse monômero é crucial na formulação de fotoresistes avançados, permitindo padrões precisos para circuitos integrados.
- Versátil na Síntese de Polímeros: Participe de técnicas de polimerização controlada, como ATRP de 4-Acetoxiestireno, para criar polímeros especializados com propriedades sob medida.
- Melhora o Desempenho de Materiais: Utilize síntese de polímeros com 4-Acetoxiestireno para desenvolver materiais empregados em adesivos de alto desempenho e revestimentos avançados.
Principais Vantagens do 4-Acetoxiestireno
Propriedades Poliméricas Aprimoradas
O enxerto de 4-Acetoxiestireno no polipropileno melhora significativamente as propriedades elétricas, incluindo resistividade DC e tensão de ruptura, tornando-o ideal para isolamentos avançados.
Precisão na Polimerização
Com técnicas de polimerização radical controlada, como polimerização RAFT de 4-Acetoxiestireno, proporcionam-se polímeros com distribuição de massa molar estreita e estruturas previsíveis.
Reatividade Química Versátil
Sua estrutura permite derivação de 4-Acetoxiestireno ao p-hidroxiestireno, abrindo caminhos para uma ampla variedade de materiais funcionais e produtos químicos especiais.
Principais Aplicações
Fabricação de Semicondutores
Essencial para processos de microlitografia, o 4-Acetoxiestireno forma a espinha dorsal de polímeros fotoresistes, crucial para a produção de microchips avançados.
Materiais Avançados e Revestimentos
Utilizado na síntese de polímeros, esse composto contribui para adesivos de alto desempenho e revestimentos protetores com maior durabilidade.
Sistemas de Resina Epoxi
Como agente de cura, o 4-Acetoxiestireno melhora o desempenho de resinas epoxi, aumentando sua resistência química e resistência mecânica em diversas aplicações.
Produção de Produtos Químicos Especiais
Servindo como intermediário químico versátil, facilita a síntese de compostos orgânicos complexos, incluindo trans-Resveratrol 3-O-β-D-Glucuronideto.