Формирование высокоупорядоченных массивов сложных наноструктур с помощью фоторезиста LB-100
Откройте для себя передовые возможности LB-100 — фоторезиста без химического усиления, разработанного для современной EUV-литографии. Достигните превосходного разрешения и переноса рисунка для ваших задач в области микроэлектроники. Свяжитесь с нами для получения предложения и образца.
Получить предложение и образецПередовое наноформирование с LB-100
LB-100
Являясь ведущим поставщиком электронных химикатов в Китае, мы предлагаем LB-100 — высокопроизводительный негативно-позитивный фоторезист. Этот материал имеет решающее значение для достижения размеров элементов менее 34 нм в передовых процессах нанофабрикации, что делает его незаменимым компонентом для производителей полупроводников, стремящихся к превосходному разрешению и надежному переносу рисунка. Мы являемся надежным производителем LB-100.
- Высокое разрешение: Формируйте сложные наноструктуры размером до 34 нм, отвечающие требованиям микроэлектроники нового поколения.
- Без химического усиления: Упрощенный процесс с собственной чувствительностью к излучению, снижающий сложность процесса и потенциальные дефекты.
- Превосходная стойкость к травлению: Обеспечивает эффективный перенос рисунка на кремниевые подложки, что важно для надежного производства полупроводников.
- Надежность поставщика: Приобретайте LB-100 у доверенного производителя для обеспечения стабильного качества и надежности цепочки поставок.
Ключевые преимущества LB-100
Точная нанофабрикация
Наш фоторезист LB-100 позволяет точно формировать сложные наноструктуры, необходимые для высокоплотных систем хранения данных и передовых электронных устройств. Изучите возможности оптовых закупок у нашего специализированного производителя.
Упрощенная обработка
Будучи резистом без химического усиления, LB-100 предлагает более оптимизированный и надежный процесс по сравнению с традиционными химически усиливающимися резистами, снижая чувствительность к постэкспозиционной термообработке и потенциальные проблемы с шероховатостью краев линий.
Экономически эффективное решение
Мы являемся конкурентоспособным поставщиком LB-100, предлагая привлекательные цены на оптовые заказы. Свяжитесь с нами для получения подробного предложения и обсуждения того, как наши материалы могут оптимизировать ваши производственные затраты.
Применение LB-100
EUV-литография
Идеально подходит для экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии, LB-100 облегчает создание сверхтонких наноструктур, критически важных для передовых полупроводниковых узлов. Запросите текущие цены на LB-100.
Производство микроэлектроники
Ключевой материал для производства интегральных схем, массивов микролинз и других микроэлектронных компонентов, требующих формирования рисунка с высоким разрешением.
Фотоника
Используется в производстве фотонных кристаллов и передовых оптических устройств, основанных на точном формировании наноструктур.
Хранение информации
Способствует разработке носителей информации нового поколения высокой плотности, позволяя формировать чрезвычайно малые биты данных.