LB-100 Fotorezist ile Yüksek Derecelendirilmiş Karmaşık Nano Özellik Dizilerinin Desenlenmesi

Gelişmiş EUV litografi için tasarlanmış kimyasal yükseltmesiz bir fotorezist olan LB-100'ün en son teknoloji yeteneklerini keşfedin. Mikroelektronik ihtiyaçlarınız için üstün çözünürlük ve desen aktarımı sağlayın. Bir teklif ve numune için bizimle iletişime geçin. Üretici olarak, size rekabetçi tedarikçi fiyatları sunuyoruz.

Teklif & Numune Alın

LB-100'ün Ana Avantajları

Hassas Nano Üretim

LB-100 fotorezistimiz, yüksek yoğunluklu veri depolama ve gelişmiş elektronik cihazlar için gerekli olan karmaşık nano özelliklerin hassas desenlemesini sağlar. Özel üreticimizden toplu satın alma seçeneklerini keşfedin.

Basitleştirilmiş İşleme

Kimyasal yükseltmesiz bir rezist olarak LB-100, geleneksel kimyasal yükseltmeli rezistlere kıyasla daha akıcı ve sağlam bir işlem sunar, pozlama sonrası fırın hassasiyetini ve olası çizgi kenarı pürüzlülüğü sorunlarını azaltır.

Maliyet Etkin Çözüm

LB-100'ün rekabetçi bir tedarikçisiyiz ve toplu siparişler için cazip fiyatlandırma sunuyoruz. Detaylı bir fiyat teklifi almak ve malzemelerimizin üretim maliyetlerinizi nasıl optimize edebileceğini tartışmak için bizimle iletişime geçin.

LB-100'ün Uygulamaları

EUV Litografi

Extreme Ultraviolet (EUV) litografi için ideal olan LB-100, gelişmiş yarı iletken düğümleri için kritik öneme sahip ultra ince nano özelliklerin oluşturulmasını kolaylaştırır. Mevcut LB-100 fiyatlandırması hakkında bilgi alın.

Mikroelektronik Üretimi

Yüksek çözünürlüklü desenleme gerektiren entegre devreler, mikro lens dizileri ve diğer mikroelektronik bileşenlerin üretimi için önemli bir malzemedir.

Fotonik Kristaller

Hassas nano yapı desenlemesine dayanan fotonik kristallerin ve gelişmiş optik cihazların üretiminde kullanılır.

Bilgi Depolama

Son derece küçük veri bitlerinin desenlemesini sağlayarak yeni nesil yüksek yoğunluklu bilgi depolama ortamlarının geliştirilmesine katkıda bulunur.

İlgili Teknik Makaleler ve Kaynaklar

İlgili makale bulunamadı.