4-Ethenylphenolacetat: Das Rückgrat fortschrittlicher Photoresists
Erschließen Sie Präzision in der Mikroelektronik mit unserem Schlüsselmonomer für innovative Photoresist-Formulierungen. Als Ihr direkter Hersteller garantieren wir höchste Qualität.
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4-Ethenylphenolacetat
Dieses hochreine chemische Zwischenprodukt ist entscheidend für die Synthese von Poly(p-hydroxystyrol), einer Grundkomponente moderner Photoresist-Technologien. Seine Anwendung ist entscheidend für die Erzielung der feinen Linienbreiten, die in der Halbleiterfertigung erforderlich sind, und ermöglicht Fortschritte von der 0,18 μm bis zur 0,11 μm Lithografie. Als Ihr führender Anbieter stellen wir sicher, dass Sie stets Zugang zu diesem essenziellen Material haben.
- Erschließen Sie Präzision in der Mikroelektronik mit diesem Schlüsselmonomer für fortschrittliche Photoresist-Formulierungen, unerlässlich für die Halbleiterlithografie.
- Nutzen Sie seine hohe Reinheit (≥99%), um konsistente und zuverlässige Leistung in sensiblen Elektronikchemikalien für die Halbleiterlithografie sicherzustellen.
- Verstehen Sie die Rolle der CAS 2628-16-2 Poly(p-hydroxystyrol) Synthese, um seine Bedeutung in der Herstellung von integrierten Schaltungen und Chips zu würdigen. Wir bieten Ihnen wettbewerbsfähige Preise.
- Als wichtiges chemisches Zwischenprodukt für Mikroelektronik unterstützt es die Entwicklung von elektronischen Geräten der nächsten Generation. Kontaktieren Sie uns für Ihre Beschaffung.
Produktvorteile
Außergewöhnliche Reinheit
Mit einer Reinheit von 99 % oder höher ist diese Verbindung ideal für anspruchsvolle Anwendungen, bei denen Spurenverunreinigungen die Leistung erheblich beeinträchtigen können, insbesondere bei hochreinem Ethenylphenolacetat-Formulierungen. Wir als Hersteller legen Wert auf diese Spezifikationen.
Ermöglichung der Mikrofabrikation
Sein Einsatz bei der Synthese von chemisch verstärkten Photoresists unterstützt direkt den Fortschritt der Lithografietechnologie und ermöglicht die Erstellung immer komplexerer Schaltungsmuster als Teil von fortschrittlichen Photoresist-Materialien. Profitieren Sie von unserer Expertise als Lieferant.
Vielseitiges chemisches Zwischenprodukt
Über Photoresists hinaus dient es als wertvoller Baustein in verschiedenen organischen Synthesewegen und bekräftigt seinen Status als wichtiges Polymer-Synthese-Vorprodukt. Fragen Sie nach unseren Lieferoptionen.
Schlüsselanwendungen
Photoresist-Synthese
Entscheidend für die Herstellung von Photoresist-Formulierungen, die in der Mikrolithografie für die Herstellung integrierter Schaltungen verwendet werden, was die Auflösung und Leistung von Chips direkt beeinflusst und es zu einem wichtigen Bestandteil von Elektronikchemikalien für die Halbleiterlithografie macht. Holen Sie sich ein Angebot vom Produzenten.
Halbleiterfertigung
Unerlässlich für Ätzprozesse in der Chip-Produktion, erleichtert die Schaffung komplexer Schaltungen und kleinerer Transistorgrößen, ein Kernaspekt der Mikroelektronik. Wir sind Ihr verlässlicher Lieferant für die notwendigen Rohstoffe.
Fortschrittliche Elektronikmaterialien
Dient als Vorstufe für Polymere, die in verschiedenen elektronischen Komponenten verwendet werden, und trägt zur Entwicklung von Geräten der nächsten Generation durch hoch-reines Ethenylphenolacetat bei. Erkundigen Sie sich nach unseren Produktionskapazitäten.
Polymerisationsprozesse
Wirkt als vielseitiges Monomer in verschiedenen Polymerisationsreaktionen und ermöglicht die Herstellung spezialisierter Polymere mit maßgeschneiderten Eigenschaften für industrielle Anwendungen, was mit Polymer-Synthese-Vorprodukten zusammenhängt. Wir bieten wettbewerbsfähige Preise und Mengen.
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