4-Ethenylphenol Acetate: Tulang Punggung Photoresist Canggih
Tingkatkan presisi dalam mikroelektronik dengan monomer kunci untuk formulasi photoresist mutakhir. Dapatkan penawaran harga langsung dari produsen.
Dapatkan Penawaran & SampelNilai Inti Produk
4-Ethenylphenol Acetate
Zat antara kimia dengan kemurnian tinggi ini sangat penting dalam mensintesis Poly(p-hydroxystyrene), komponen dasar dalam teknologi photoresist modern. Aplikasinya sangat krusial untuk mencapai lebar garis halus yang dibutuhkan dalam fabrikasi semikonduktor, memungkinkan kemajuan dari litografi 0.18μm hingga 0.11μm. Dapatkan harga terbaik dari pemasok kami.
- Tingkatkan presisi dalam mikroelektronik dengan monomer kunci untuk formulasi photoresist canggih, esensial untuk litografi semikonduktor.
- Manfaatkan kemurniannya yang tinggi (≥99%) untuk memastikan kinerja yang konsisten dan andal dalam bahan kimia elektronik untuk litografi semikonduktor yang sensitif.
- Pahami peran sintesis CAS 2628-16-2 Poly(p-hydroxystyrene) untuk menghargai signifikansinya dalam manufaktur sirkuit terpadu dan chip.
- Sebagai zat antara kimia untuk mikroelektronik yang vital, ini mendukung pengembangan perangkat elektronik generasi mendatang.
Keunggulan Produk
Kemurnian Luar Biasa
Menawarkan kemurnian 99% atau lebih tinggi, senyawa ini ideal untuk aplikasi yang menuntut di mana jejak pengotor dapat sangat memengaruhi kinerja, terutama dalam formulasi high purity ethenylphenol acetate. Hubungi kami untuk informasi harga dan pasokan.
Memfasilitasi Mikrofabrikasi
Penggunaannya dalam mensintesis photoresist yang diaktifkan secara kimia secara langsung mendukung kemajuan teknologi litografi, memungkinkan penciptaan pola sirkuit yang semakin rumit sebagai bagian dari material photoresist canggih.
Zat Antara Kimia Serbaguna
Selain photoresist, senyawa ini berfungsi sebagai blok bangunan yang berharga dalam berbagai jalur sintesis organik, memperkuat statusnya sebagai prekursor sintesis polimer utama.
Aplikasi Utama
Sintesis Photoresist
Kritis untuk membuat formulasi photoresist yang digunakan dalam mikrolitografi untuk manufaktur sirkuit terpadu, berdampak langsung pada resolusi dan kinerja chip, menjadikannya bagian penting dari bahan kimia elektronik untuk litografi semikonduktor.
Manufaktur Semikonduktor
Esensial untuk proses etsa dalam produksi chip, memfasilitasi penciptaan sirkuit kompleks dan ukuran transistor yang lebih kecil, aspek inti dari mikroelektronik. Dapatkan harga produsen terbaik.
Material Elektronik Canggih
Berfungsi sebagai prekursor untuk polimer yang digunakan dalam berbagai komponen elektronik, berkontribusi pada pengembangan perangkat generasi berikutnya melalui high purity ethenylphenol acetate.
Proses Polimerisasi
Bertindak sebagai monomer serbaguna dalam berbagai reaksi polimerisasi, memungkinkan penciptaan polimer khusus dengan sifat yang disesuaikan untuk aplikasi industri, terkait dengan prekursor sintesis polimer.