Ácido 4-Etenilfenol Acético: La Base de las Fotomáscaras Avanzadas
Desbloquee la precisión en microelectrónica con un monómero clave para formulaciones de fotomáscaras de vanguardia. Consulte su precio con nosotros.
Solicite Cotización y MuestraValor Central del Producto
Ácido 4-Etenilfenol Acético
Este intermedio químico de alta pureza es fundamental en la síntesis de Poli(p-hidroxiestireno), un componente fundamental en las tecnologías modernas de fotomáscaras. Su aplicación es crucial para lograr los anchos de línea finos requeridos en la fabricación de semiconductores, permitiendo avances desde la litografía de 0.18μm a 0.11μm. Somos un fabricante y proveedor líder.
- Desbloquee la precisión en microelectrónica con este monómero clave para formulaciones de fotomáscaras avanzadas, esencial para la litografía de semiconductores. Obtenga su precio hoy mismo.
- Aproveche su alta pureza (≥99%) para garantizar un rendimiento constante y fiable en químicos electrónicos sensibles para litografía de semiconductores.
- Comprenda el papel de la síntesis de Poli(p-hidroxiestireno) CAS 2628-16-2 para apreciar su importancia en la fabricación de circuitos integrados y chips. Consulte con nuestro equipo de ventas para obtener detalles sobre el precio.
- Como un valioso intermedio químico para microelectrónica, apoya el desarrollo de dispositivos electrónicos de próxima generación. Contáctenos como su proveedor de confianza.
Ventajas del Producto
Pureza Excepcional
Con una pureza del 99% o superior, este compuesto es ideal para aplicaciones exigentes donde las impurezas traza pueden afectar significativamente el rendimiento, especialmente en formulaciones de acetato de etenilfenol de alta pureza.
Habilitador de Microfabricación
Su uso en la síntesis de fotomáscaras amplificadas químicamente apoya directamente el avance de la tecnología de litografía, permitiendo la creación de patrones de circuito cada vez más intrincados como parte de materiales avanzados para fotomáscaras.
Intermediario Químico Versátil
Más allá de las fotomáscaras, sirve como un valioso bloque de construcción en diversas vías de síntesis orgánica, reforzando su estatus como un precursor clave para la síntesis de polímeros.
Aplicaciones Clave
Síntesis de Fotomáscaras
Crítico para la creación de formulaciones de fotomáscaras utilizadas en microlitografía para la fabricación de circuitos integrados, impactando directamente la resolución y el rendimiento del chip, convirtiéndolo en una parte clave de los químicos electrónicos para litografía de semiconductores.
Fabricación de Semiconductores
Esencial para los procesos de grabado en la producción de chips, facilitando la creación de circuitos complejos y tamaños de transistores más pequeños, un aspecto central de la microelectrónica.
Materiales Electrónicos Avanzados
Sirve como precursor de polímeros utilizados en diversos componentes electrónicos, contribuyendo al desarrollo de dispositivos de próxima generación a través del acetato de etenilfenol de alta pureza.
Procesos de Polimerización
Actúa como un monómero versátil en diversas reacciones de polimerización, permitiendo la creación de polímeros especializados con propiedades a medida para aplicaciones industriales, conectando con precursores para la síntesis de polímeros.