Ацетат 4-этенилфенола: основа передовых фоторезистов от производителя
Обеспечьте точность в микроэлектронике с ключевым мономером для передовых фоторезистов. Запросите цену и образец прямо сейчас!
Получить предложение и образецОсновная ценность продукта
Ацетат 4-этенилфенола
Этот высокочистый химический интермедиат играет ключевую роль в синтезе поли(п-гидроксистирола), фундаментального компонента современных фоторезистивных технологий. Его применение критически важно для достижения тонких линий, необходимых в производстве полупроводников, обеспечивая прогресс в литографии от 0,18 мкм до 0,11 мкм. Как надежный поставщик, мы гарантируем стабильность и качество.
- Разблокируйте точность в микроэлектронике с помощью этого ключевого мономера для передовых фоторезистивных композиций, необходимых для литографии полупроводников.
- Используйте его высокую чистоту (≥99%) для обеспечения стабильной и надежной производительности в чувствительных электронных химикатах для литографии полупроводников.
- Поймите роль CAS 2628-16-2 в синтезе поли(п-гидроксистирола), чтобы оценить его значимость в производстве интегральных схем и чипов.
- Являясь жизненно важным химическим интермедиатом для микроэлектроники, он поддерживает разработку электронных устройств нового поколения.
Преимущества продукта
Исключительная чистота
Обладая чистотой 99% и выше, это соединение идеально подходит для требовательных применений, где следовые количества примесей могут существенно повлиять на производительность, особенно в рецептурах высокочистого ацетата этенилфенола.
Обеспечение микрофабрикации
Его использование в синтезе химически усиленных фоторезистов напрямую поддерживает прогресс в литографических технологиях, позволяя создавать все более сложные схемы в рамках передовых материалов для фоторезистов. Мы предлагаем его по конкурентной цене.
Универсальный химический интермедиат
Помимо фоторезистов, он служит ценным строительным блоком в различных путях органического синтеза, укрепляя его статус как ключевого прекурсора для синтеза полимеров.
Ключевые области применения
Синтез фоторезистов
Критически важен для создания фоторезистивных композиций, используемых в микролитографии для производства интегральных схем, напрямую влияя на разрешение и производительность чипов, что делает его ключевой частью электронных химикатов для литографии полупроводников.
Производство полупроводников
Необходим для процессов травления при производстве чипов, облегчая создание сложных схем и уменьшение размеров транзисторов, что является основной составляющей микроэлектроники. Мы являемся надежным производителем.
Передовые электронные материалы
Служит прекурсором для полимеров, используемых в различных электронных компонентах, способствуя разработке устройств нового поколения благодаря высокочистому ацетату этенилфенола.
Процессы полимеризации
Действует как универсальный мономер в различных реакциях полимеризации, позволяя создавать специализированные полимеры с адаптированными свойствами для промышленных применений, что связано с прекурсорами для синтеза полимеров. Узнайте нашу цену.
Технические статьи и сопутствующие ресурсы
Похожие статьи не найдены.