Acetato de 4-Etenilfenol: A Estrutura dos Fotorresists Avançados

Desbloqueie precisão na microeletrônica com um monômero chave para formulações de fotorresist de ponta.

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Vantagens do Produto

Pureza Excepcional

Com pureza de 99% ou superior, este composto é ideal para aplicações exigentes onde impurezas traço podem impactar significativamente o desempenho, especialmente em formulações de acetato de etenilfenol de alta pureza.

Habilitação à Microfabricação

Seu uso na síntese de fotorresists amplificados quimicamente apoia diretamente a progressão da tecnologia de litografia, permitindo a criação de padrões de circuitos cada vez mais intrincados como parte de materiais avançados de fotorresist.

Intermediário Químico Versátil

Além de fotorresist, serve como um valioso bloco de construção em várias vias de síntese orgânica, reforçando seu status como precursor de síntese de polímeros chave.

Aplicações Chave

Síntese de Fotorresist

Crítico para criar formulações de fotorresist usadas na microlitografia para fabricação de circuitos integrados, impactando diretamente a resolução e desempenho do chip, tornando-se parte-chave de produtos químicos eletrônicos para litografia de semicondutores.

Fabricação de Semicondutores

Essencial para processos de revelação na produção de chips, facilitando a criação de circuitos complexos e tamanhos menores de transistores, aspecto central da microeletrônica.

Materiais Eletrônicos Avançados

Atua como precursor para polímeros usados em vários componentes eletrônicos, contribuindo para o desenvolvimento de dispositivos de próxima geração através do acetato de etenilfenol de alta pureza.

Processos de Polimerização

Atua como monômero versátil em várias reações de polimerização, possibilitando a criação de polímeros especializados com propriedades adaptadas para aplicações industriais, ligando-se a precursores de síntese de polímeros.