4-エテニルフェノール酢酸エステル：先進フォトレジストのバックボーン

この主要モノマーによる最新のフォトレジスト配合により、マイクロエレクトロニクスでの高精度を実現。

製品の核心価値

この高純度化学中間体は、現代フォトレジスト技術の基礎となるポリ（p-ヒドロキシスチレン）の合成に欠かせません。その用途は半導体製造における微細な線幅の実現に不可欠であり、リソグラフィーの0.18μmから0.11μmへの進化を可能にしています。

99％以上の純度を誇る本化合物は、微少不純物が性能に大きな影響を与える要求の厳しい用途に最適であり、高純度エテニルフェノール酢酸エステル配合の要ともなります。

化学増幅フォトレジストの合成への利用は、リソグラフィー技術の進化を直接支援し、より高度で複雑な回路パターンの形成を可能にし、先進フォトレジスト材料の構成要素となっています。

フォトレジスト以外にも、多彩な有機合成経路における貴重なビルディングブロックとして機能し、主要な重合合成プレカーサーの地位を強化しています。

集積回路製造のマイクロリソグラフィーで使用されるフォトレジスト配合品の創出に重要であり、チップの解像度と性能に直接影響を与えるため、半導体リソグラフィー用エレクトロニクスケミカルの中核を担います。

チップ生産におけるエッチングプロセスに不可欠で、複雑な回路およびより微細なトランジスタサイズの形成を促進し、マイクロエレクトロニクスの中核要素となっています。

各種電子部品に使用される高分子のプレカーサーとして機能し、高純度エテニルフェノール酢酸エステルを通じて、次世代デバイス開発に貢献します。

各種重合反応における多用途モノマーとして機能し、産業用用途に適した特性を持つ特殊高分子の創出を可能にし、重合合成プレカーサーに直接つながります。