Tris(dimethylamino)silan: Eigenschaften, Anwendungen und Sicherheit eines vielseitigen Organosilicium-Compounds
Entdecken Sie die wichtigsten Eigenschaften und Anwendungen von Tris(dimethylamino)silan, einer entscheidenden Chemikalie für die fortschrittliche Materialabscheidung. Als führender Hersteller bieten wir Ihnen dieses Produkt für Ihre spezifischen Anforderungen.
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Tris(dimethylamino)silan als Präkursor
Tris(dimethylamino)silan (CAS 15112-89-7) ist ein essenzielles Organosilicium-Compound, das für seine Vielseitigkeit in der modernen Materialwissenschaft bekannt ist. Seine einzigartige chemische Struktur macht es zu einem hervorragenden Präkursor für die Abscheidung von Siliziumnitrid mittels ALD und CVD. Dies trägt zur Herstellung von hochwertigen Dünnschichten bei, die für die Mikroelektronik und die Halbleiterfertigung unerlässlich sind. Erhalten Sie dieses Spezialprodukt direkt von unserem Werk.
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- Verstehen Sie die Rolle dieses Organosilicium-Compounds in CVD-Prozessen zur Abscheidung von Siliziumnitrid, die für die Fertigung fortschrittlicher elektronischer Komponenten entscheidend ist. Fragen Sie uns nach dem besten Preis.
- Lernen Sie die hydrosilylierenden Katalysatoreigenschaften von Tris(dimethylamino)silan kennen, die verschiedene organische Synthesereaktionen erleichtern. Suchen Sie einen erfahrenen Hersteller? Hier sind Sie richtig.
- Entdecken Sie sichere Handhabungspraktiken für reaktive Silane wie Tris(dimethylamino)silan, um die Betriebssicherheit in Laboratorien und Industrieumgebungen zu gewährleisten.
Vorteile des Produkts
Präzise Dünnschichtabscheidung
Der Einsatz von Tris(dimethylamino)silan in ALD-Prozessen ermöglicht die atomare Kontrolle über Schichtdicke und Zusammensetzung, was zu überlegener Leistung in mikroelektronischen Bauteilen führt. Profitieren Sie von der hohen Qualität unseres Produkts.
Verbesserte Materialeigenschaften
Die mittels dieses Präkursors abgeschiedenen Siliziumnitrid-Schichten weisen ausgezeichnete dielektrische Eigenschaften, thermische Stabilität und chemische Beständigkeit auf, was für anspruchsvolle Anwendungen entscheidend ist. Wir stellen höchste Reinheit sicher.
Vielseitige chemische Reaktivität
Über die Abscheidung hinaus erweitert die Rolle von Tris(dimethylamino)silan als Hydrosilylierungskatalysator seine Anwendbarkeit in der organischen Synthese und ermöglicht effiziente chemische Transformationen. Sichern Sie sich dieses vielseitige Werkzeug vom Produzenten.
Hauptanwendungen
Atomic Layer Deposition (ALD)
Tris(dimethylamino)silan ist ein kritischer Präkursor für die Abscheidung konformer und porenfreier Dünnschichten aus Siliziumnitrid, die für Gate-Dielektrika und Passivierungsschichten in Halbleitern unerlässlich sind. Kontaktieren Sie uns für Ihre Lieferanforderungen.
Chemical Vapor Deposition (CVD)
Es wird in Niederdruck-CVD-Prozessen für Siliziumnitrid eingesetzt und bietet eine zuverlässige Methode zur Herstellung hochwertiger Nitrid-Schichten mit abstimmbaren Eigenschaften. Fordern Sie ein individuelles Preisangebot an.
Hydrosilylierungsreaktionen
Die Verbindung fungiert als Katalysator bei der Hydrosilylierung von Olefinen, eine grundlegende Reaktion in der organischen Chemie zur Erzeugung neuer Kohlenstoff-Silizium-Bindungen und funktionalisierter Moleküle. Wir sind Ihr kompetenter Anbieter.
Chemische Synthese
Tris(dimethylamino)silan kann mit Ammoniak reagieren, um Siliziumnitrid-Präpolymere zu bilden, und dient als Baustein in verschiedenen chemischen Synthesewegen. Erhalten Sie schnelle Preisinformationen von uns als Ihrem bevorzugten Hersteller.
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