Tris(dimetilamino)silano: Propriedades, Aplicações e Segurança de um Composto Organossilício Versátil
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Tris(dimetilamino)silano
Tris(dimetilamino)silano (CAS 15112-89-7) é um composto organossilício vital, renomado por sua utilidade em ciência de materiais avançados. Sua estrutura química única o torna um excelente precursor para deposição de nitreto de silício via ALD e CVD, contribuindo para a criação de filmes finos de alta qualidade essenciais em microeletrônica e fabricação de semicondutores. Trabalhe com um fornecedor confiável para suas necessidades.
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- Conheça as propriedades catalíticas de hidrossililação do Tris(dimetilamino)silano, facilitando várias reações de síntese orgânica. Disponível para venda direta do fabricante.
- Descubra as práticas de manuseio seguro para silanos reativos como o Tris(dimetilamino)silano, garantindo segurança operacional em laboratórios e ambientes industriais. Contate nosso time de vendas para mais detalhes e informações de preço.
Vantagens Oferecidas pelo Produto
Deposição Precisa de Filmes Finos
O uso do Tris(dimetilamino)silano em processos ALD permite controle em nível atômico sobre a espessura e composição do filme, levando a desempenho superior em dispositivos microeletrônicos. Confie em nosso fornecimento para resultados consistentes.
Propriedades de Material Aprimoradas
Filmes de nitreto de silício depositados usando este precursor exibem excelentes propriedades dielétricas, estabilidade térmica e resistência química, vitais para aplicações exigentes. Contate nosso fabricante para garantir seu suprimento.
Reatividade Química Versátil
Além da deposição, o papel do Tris(dimetilamino)silano como catalisador de hidrossililação amplia sua aplicabilidade em síntese orgânica, permitindo transformações químicas eficientes. Descubra nossos preços competitivos como produtor direto.
Principais Aplicações
Deposição de Camada Atômica (ALD)
Tris(dimetilamino)silano é um precursor crítico para deposição de filmes finos conformais e livres de furos de nitreto de silício, essencial para dielétricos de porta e camadas de passivação em semicondutores. Somos um fornecedor principal deste composto.
Deposição Química em Fase Vapor (CVD)
É empregado em processos de CVD de baixa pressão para nitreto de silício, oferecendo um método confiável para produzir camadas de nitreto de alta qualidade com propriedades ajustáveis. Obtenha o melhor preço de nosso fabricante especializado.
Reações de Hidrossililação
O composto atua como catalisador na hidrossililação de olefinas, uma reação fundamental em química orgânica para criar novas ligações carbono-silício e moléculas funcionalizadas. Como produtor, oferecemos este composto com garantia de qualidade.
Síntese Química
Tris(dimetilamino)silano pode reagir com amônia para formar prepolímeros de nitreto de silício, servindo como bloco de construção em várias vias de síntese química. Contate-nos para discutir suas necessidades de fornecimento e obter informações de preço.
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