Tris(dimethylamino)silane: Sifat, Aplikasi, dan Keamanan Senyawa Organosilicon Serbaguna dari Produsen Langsung
Jelajahi karakteristik dan kegunaan utama Tris(dimethylamino)silane, bahan kimia penting dalam deposisi material canggih. Dapatkan penawaran terbaik dari pemasok terpercaya kami.
Dapatkan Penawaran & SampelNilai Inti Produk
Tris(dimethylamino)silane (CAS 15112-89-7)
Tris(dimethylamino)silane (CAS 15112-89-7) adalah senyawa organosilicon vital yang terkenal karena kegunaannya dalam ilmu material canggih. Struktur kimianya yang unik menjadikannya prekursor yang sangat baik untuk deposisi silikon nitrida melalui ALD dan CVD, berkontribusi pada penciptaan lapisan tipis berkualitas tinggi yang penting dalam mikroelektronika dan manufaktur semikonduktor. Kami adalah pabrikan terkemuka, siap memenuhi kebutuhan pasokan Anda dengan harga kompetitif.
- Jelajahi kemampuan Tris(dimethylamino)silane CAS 15112-89-7 sebagai prekursor utama untuk deposisi silikon nitrida ALD, memungkinkan pertumbuhan lapisan tipis yang presisi. Hubungi kami untuk detail harga.
- Pahami peran senyawa organosilicon ini dalam proses deposisi silikon nitrida CVD, yang krusial untuk pembuatan komponen elektronik canggih. Dapatkan penawaran dari pemasok kami.
- Pelajari tentang sifat katalis hidrosililasi Tris(dimethylamino)silane, memfasilitasi berbagai reaksi sintesis organik.
- Temukan praktik penanganan yang aman untuk silan reaktif seperti Tris(dimethylamino)silane, memastikan keamanan operasional di laboratorium dan pengaturan industri.
Keunggulan yang Ditawarkan oleh Produk
Deposisi Lapisan Tipis Presisi
Penggunaan Tris(dimethylamino)silane dalam proses ALD memungkinkan kontrol tingkat atom atas ketebalan dan komposisi lapisan, yang mengarah pada kinerja superior dalam perangkat mikroelektronik. Sebagai pemasok yang andal, kami menjamin kualitas.
Properti Material yang Ditingkatkan
Lapisan silikon nitrida yang dideposisikan menggunakan prekursor ini menunjukkan sifat dielektrik yang sangat baik, stabilitas termal, dan ketahanan kimia, yang penting untuk aplikasi yang menuntut. Cari harga terbaik dari produsen.
Reaktivitas Kimia Serbaguna
Selain deposisi, peran Tris(dimethylamino)silane sebagai katalis hidrosililasi memperluas aplikasinya dalam sintesis organik, memungkinkan transformasi kimia yang efisien. Kami menyediakan solusi bahan kimia yang Anda butuhkan.
Aplikasi Utama
Atomic Layer Deposition (ALD)
Tris(dimethylamino)silane adalah prekursor penting untuk mendeposisikan lapisan tipis silikon nitrida yang konformal dan bebas pinhole, yang penting untuk dielektrik gerbang dan lapisan pasivasi dalam semikonduktor. Cari penawaran dari pemasok kami.
Chemical Vapor Deposition (CVD)
Ini digunakan dalam proses CVD tekanan rendah untuk silikon nitrida, menawarkan metode yang andal untuk menghasilkan lapisan nitrida berkualitas tinggi dengan sifat yang dapat disesuaikan. Dapatkan harga kompetitif dari produsen.
Reaksi Hidrosililasi
Senyawa ini bertindak sebagai katalis dalam hidrosililasi olefin, sebuah reaksi fundamental dalam kimia organik untuk menciptakan ikatan karbon-silikon baru dan molekul terfungsionalisasi. Kami adalah pemasok Anda untuk kebutuhan sintesis kimia.
Sintesis Kimia
Tris(dimethylamino)silane dapat bereaksi dengan amonia untuk membentuk prepolimer silikon nitrida, berfungsi sebagai blok bangunan dalam berbagai jalur sintesis kimia. Hubungi kami untuk informasi lebih lanjut tentang ketersediaan produk dan harga.
Artikel & Sumber Daya Teknis Terkait
Tidak ada artikel terkait yang ditemukan.