Tris(diméthylamino)silane (3DMAS) : Propriétés, Applications et Sécurité d'un Composé Organosilicié Polyvalent - Votre Fournisseur de Confiance
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Tris(diméthylamino)silane (3DMAS)
Le Tris(diméthylamino)silane (CAS 15112-89-7) est un composé organosilicié vital, reconnu pour son utilité dans la science des matériaux avancés. Sa structure chimique unique en fait un excellent précurseur pour le dépôt de nitrure de silicium via ALD et CVD, contribuant à la création de films minces de haute qualité essentiels dans la microélectronique et la fabrication de semi-conducteurs. En tant que fabricant spécialisé, nous garantissons la pureté et la disponibilité pour vos besoins industriels.
- Explorez les capacités du Tris(diméthylamino)silane CAS 15112-89-7 en tant que précurseur clé pour le dépôt de nitrure de silicium par ALD, permettant une croissance précise des couches minces. Pour des besoins d'approvisionnement à grande échelle, contactez-nous pour discuter des prix de gros.
- Comprenez le rôle de ce composé organosilicié dans les processus de dépôt de nitrure de silicium par CVD, cruciaux pour la fabrication de composants électroniques avancés. Nous sommes un fournisseur fiable pour ces applications critiques.
- Découvrez les propriétés de catalyseur d'hydrosilylation du Tris(diméthylamino)silane, facilitant diverses réactions de synthèse organique.
- Apprenez les pratiques de manipulation sécurisée pour les silanes réactifs comme le Tris(diméthylamino)silane, assurant la sécurité opérationnelle dans les laboratoires et les environnements industriels.
Avantages Offerts par le Produit
Dépôt Précis de Films Minces
L'utilisation du Tris(diméthylamino)silane dans les processus ALD permet un contrôle au niveau atomique de l'épaisseur et de la composition des films, conduisant à des performances supérieures dans les dispositifs microélectroniques. Contactez notre équipe commerciale pour obtenir des informations sur les prix et les options d'achat.
Propriétés Matérielles Améliorées
Les films de nitrure de silicium déposés à l'aide de ce précurseur présentent d'excellentes propriétés diélectriques, une stabilité thermique et une résistance chimique, essentielles pour les applications exigeantes. En tant que fabricant, nous fournissons des spécifications détaillées pour confirmer ces avantages.
Réactivité Chimique Polyvalente
Au-delà du dépôt, le rôle du Tris(diméthylamino)silane en tant que catalyseur d'hydrosilylation élargit son applicabilité dans la synthèse organique, permettant des transformations chimiques efficaces.
Applications Clés
Dépôt par Couches Atomiques (ALD)
Le Tris(diméthylamino)silane est un précurseur essentiel pour le dépôt de films minces conformes et sans trous d'épingle de nitrure de silicium, indispensables pour les diélectriques de grille et les couches de passivation dans les semi-conducteurs. En tant que fournisseur expérimenté, nous sommes votre partenaire pour ces matériaux de haute technologie.
Dépôt Chimique en Phase Vapeur (CVD)
Il est utilisé dans les processus CVD à basse pression pour le nitrure de silicium, offrant une méthode fiable pour produire des couches de nitrure de haute qualité avec des propriétés ajustables. Demandez un prix pour des commandes en vrac.
Réactions d'Hydrosilylation
Le composé agit comme catalyseur dans l'hydrosilylation des oléfines, une réaction fondamentale en chimie organique pour créer de nouvelles liaisons carbone-silicium et des molécules fonctionnalisées.
Synthèse Chimique
Le Tris(diméthylamino)silane peut réagir avec l'ammoniac pour former des prépolymères de nitrure de silicium, servant de bloc de construction dans diverses voies de synthèse chimique. Pour des besoins en fabricant de produits chimiques spécialisés, nous sommes à votre disposition.
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