Tris(dimethylamino)silane (3DMAS): Свойства, применение и безопасность универсального органосиликонового соединения
Изучите ключевые характеристики и области применения Tris(dimethylamino)silane – важнейшего химического соединения для передовых технологий осаждения материалов. Ищите надежного поставщика? Свяжитесь с нами!
Запросить цену и образцыКлючевая ценность продукта

Tris(dimethylamino)silane
Tris(dimethylamino)silane (CAS 15112-89-7) – это ценное органосиликоновое соединение, известное своим применением в передовой науке о материалах. Его уникальная химическая структура делает его превосходным прекурсором для осаждения нитрида кремния методами ALD и CVD, способствуя созданию высококачественных тонких пленок, необходимых в микроэлектронике и производстве полупроводников. Являясь ведущим производителем, мы предлагаем конкурентные цены.
- Изучите возможности Tris(dimethylamino)silane CAS 15112-89-7 как ключевого прекурсора для осаждения нитрида кремния методом ALD, обеспечивающего точный рост тонких пленок.
- Поймите роль этого органосиликонового соединения в процессах осаждения нитрида кремния методом CVD, критически важных для изготовления передовых электронных компонентов.
- Узнайте о каталитических свойствах Tris(dimethylamino)silane в реакциях гидросилилирования, способствующих различным реакциям органического синтеза.
- Откройте для себя безопасные методы обращения с реактивными силанами, такими как Tris(dimethylamino)silane, обеспечивая безопасность операций в лабораториях и на промышленных предприятиях.
Преимущества продукта
Точное осаждение тонких пленок
Использование Tris(dimethylamino)silane в процессах ALD обеспечивает контроль толщины и состава пленок на атомном уровне, что приводит к превосходным характеристикам в микроэлектронных устройствах.
Улучшенные свойства материалов
Пленки нитрида кремния, осажденные с использованием данного прекурсора, демонстрируют превосходные диэлектрические свойства, термическую стабильность и химическую стойкость, что важно для требовательных применений. Мы гарантируем стабильные поставки.
Универсальная химическая реактивность
Помимо осаждения, роль Tris(dimethylamino)silane как катализатора гидросилилирования расширяет его применимость в органическом синтезе, позволяя проводить эффективные химические преобразования.
Основные области применения
Атомно-слоевое осаждение (ALD)
Tris(dimethylamino)silane является критически важным прекурсором для осаждения конформных и бездефектных тонких пленок нитрида кремния, необходимых для диэлектриков затвора и пассивирующих слоев в полупроводниках. Запросите цену.
Химическое парофазное осаждение (CVD)
Он используется в процессах CVD при пониженном давлении для нитрида кремния, предлагая надежный метод производства высококачественных нитридных слоев с настраиваемыми свойствами. Свяжитесь с нами, чтобы узнать цену.
Реакции гидросилилирования
Соединение действует как катализатор в реакциях гидросилилирования олефинов – фундаментальной реакции в органической химии для создания новых связей углерод-кремний и функционализированных молекул.
Химический синтез
Tris(dimethylamino)silane может реагировать с аммиаком с образованием пре-полимеров нитрида кремния, служа строительным блоком в различных путях химического синтеза. Являясь вашим производителем, мы предлагаем лучшие цены.
Технические статьи и сопутствующие ресурсы
Похожие статьи не найдены.