Tris(dimetilamino)silano: Propiedades, Aplicaciones y Seguridad de un Compuesto Organosilícico Versátil
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Tris(dimetilamino)silano
El Tris(dimetilamino)silano (CAS 15112-89-7) es un compuesto organosilícico vital, reconocido por su utilidad en la ciencia de materiales avanzados. Su estructura química única lo convierte en un excelente precursor para la deposición de nitruro de silicio mediante ALD y CVD, contribuyendo a la creación de películas delgadas de alta calidad esenciales en la microelectrónica y la fabricación de semiconductores. Como su proveedor, garantizamos calidad y consistencia.
- Explore las capacidades del Tris(dimetilamino)silano CAS 15112-89-7 como precursor clave para la deposición de nitruro de silicio mediante ALD, permitiendo un crecimiento preciso de películas delgadas.
- Comprenda el papel de este compuesto organosilícico en los procesos de deposición de nitruro de silicio por CVD, crucial para la fabricación de componentes electrónicos avanzados.
- Aprenda sobre las propiedades catalíticas de hidrosilación del Tris(dimetilamino)silano, que facilitan diversas reacciones de síntesis orgánica.
- Descubra las prácticas de manejo seguro para silanos reactivos como el Tris(dimetilamino)silano, asegurando la seguridad operativa en laboratorios y entornos industriales.
Ventajas Ofrecidas por el Producto
Deposición Precisa de Películas Delgadas
El uso de Tris(dimetilamino)silano en procesos ALD permite un control a nivel atómico del espesor y la composición de la película, lo que resulta en un rendimiento superior en dispositivos microelectrónicos. Como su fabricante, nos enfocamos en la precisión.
Propiedades de Material Mejoradas
Las películas de nitruro de silicio depositadas utilizando este precursor exhiben excelentes propiedades dieléctricas, estabilidad térmica y resistencia química, vitales para aplicaciones exigentes.
Reactividad Química Versátil
Más allá de la deposición, el papel del Tris(dimetilamino)silano como catalizador de hidrosilación amplía su aplicabilidad en síntesis orgánica, permitiendo transformaciones químicas eficientes.
Aplicaciones Clave
Deposición de Capa Atómica (ALD)
El Tris(dimetilamino)silano es un precursor crítico para depositar películas delgadas conformales y sin agujeros de nitruro de silicio, esenciales para dieléctricos de puerta y capas de pasivación en semiconductores. Ofrecemos soluciones a medida para sus necesidades de ALD.
Deposición Química en Fase Vapor (CVD)
Se emplea en procesos de CVD a baja presión para nitruro de silicio, ofreciendo un método confiable para producir capas de nitruro de alta calidad con propiedades ajustables. Confíe en nosotros como su proveedor de referencia.
Reacciones de Hidrosilación
El compuesto actúa como catalizador en la hidrosilación de olefinas, una reacción fundamental en química orgánica para crear nuevos enlaces carbono-silicio y moléculas funcionalizadas.
Síntesis Química
El Tris(dimetilamino)silano puede reaccionar con amoníaco para formar prepolímeros de nitruro de silicio, sirviendo como un bloque de construcción en diversas rutas de síntesis química. Consulte nuestra oferta de productos químicos especializados.
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