トリス(ジメチルアミノ)シラン:高性能有機ケイ素化合物 – 物性・用途・安全性を徹底解説
先進材料成膜に不可欠なトリス(ジメチルアミノ)シランの主要特性と用途を、メーカー視点でご紹介します。価格やサンプルについてもご相談ください。
価格・サンプルのお問い合わせ製品のコアバリュー

トリス(ジメチルアミノ)シラン
トリス(ジメチルアミノ)シラン(CAS 15112-89-7)は、先進材料科学においてその有用性で知られる、不可欠な有機ケイ素化合物です。そのユニークな化学構造は、ALDおよびCVDによるシリコンナイトライド成膜に優れた前駆体となり、マイクロエレクトロニクスおよび半導体製造に不可欠な高品質薄膜の形成に貢献しています。当社の高品質製品は、主要サプライヤーとして安定供給と競争力のある価格で提供しております。
- ALDシリコンナイトライド成膜における主要前駆体としてのトリス(ジメチルアミノ)シラン CAS 15112-89-7の能力を探求し、精密な薄膜成長を実現します。
- 高度な電子部品の製造に不可欠な、CVDシリコンナイトライド成膜プロセスにおけるこの有機ケイ素化合物の役割を理解します。
- トリス(ジメチルアミノ)シランのヒドロシリル化触媒としての特性は、様々な有機合成反応を促進し、その適用範囲を広げます。
- ラボおよび産業現場での安全な運用を確保するため、トリス(ジメチルアミノ)シランのような反応性シランの安全な取り扱い慣行を学びます。
製品が提供するメリット
精密な薄膜成膜
ALDプロセスにおけるトリス(ジメチルアミノ)シランの使用は、膜厚と組成の原子レベルでの制御を可能にし、マイクロエレクトロニクスデバイスの優れた性能につながります。
向上した材料特性
この前駆体を用いて成膜されたシリコンナイトライド膜は、優れた誘電特性、熱安定性、および耐薬品性を発揮し、要求の厳しい用途に不可欠です。
多様な化学反応性
成膜用途以外にも、ヒドロシリル化触媒としてのトリス(ジメチルアミノ)シランの役割は、有機合成におけるその適用性を広げ、効率的な化学変換を可能にします。
主要な用途
原子層堆積(ALD)
トリス(ジメチルアミノ)シランは、半導体におけるゲート誘電体およびパッシベーション層に不可欠な、コンフォーマルでピンホールフリーなシリコンナイトライド薄膜を堆積するための重要な前駆体です。ALD用途での価格や供給については、お気軽にお問い合わせください。
化学気相成長(CVD)
低圧CVDプロセスでシリコンナイトライドを成膜する際に使用され、調整可能な特性を持つ高品質なナイトライド層を製造するための信頼性の高い方法を提供します。CVDサプライヤーとして、最適なソリューションを提供いたします。
ヒドロシリル化反応
この化合物は、オレフィンのヒドロシリル化における触媒として機能し、新しい炭素-ケイ素結合の形成や官能基化分子の作成における有機化学の基本的な反応を促進します。
化学合成
トリス(ジメチルアミノ)シランはアンモニアと反応してシリコンナイトライド前駆体を形成することができ、様々な化学合成経路におけるビルディングブロックとして機能します。信頼できる化学合成メーカーをお探しなら、ぜひご相談ください。
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