Tris(dimethylamino)silane: 다용도 유기실리콘 화합물의 특성, 응용 및 안전 가이드

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제품 제공 이점

정밀 박막 증착

ALD 공정에서 Tris(dimethylamino)silane을 사용하면 박막 두께와 구성에 대한 원자 수준 제어가 가능하여 마이크로전자 장치에서 우수한 성능을 발휘합니다.

향상된 재료 특성

이 전구체를 사용하여 증착된 질화규소 박막은 우수한 유전 특성, 열 안정성 및 내화학성을 나타내며, 까다로운 응용 분야에 필수적입니다.

다양한 화학 반응성

증착 외에도 Tris(dimethylamino)silane은 수소화규소화 촉매로서의 역할로 유기 합성 분야에서의 응용 범위를 넓혀 효율적인 화학 변환을 가능하게 합니다.

주요 응용 분야

원자층 증착 (ALD)

Tris(dimethylamino)silane은 반도체의 게이트 유전체 및 패시베이션 층에 필수적인, 등각 및 핀홀 없는 질화규소 박막 증착을 위한 중요 전구체입니다.

화학 기상 증착 (CVD)

낮은 압력 CVD 공정에서 질화규소 증착에 사용되며, 조정 가능한 특성을 가진 고품질 질화물 층을 생산하는 신뢰할 수 있는 방법을 제공합니다.

수소화규소화 반응

이 화합물은 올레핀의 수소화규소화 반응에서 촉매 역할을 하며, 새로운 탄소-실리콘 결합 및 기능화된 분자를 생성하는 유기 화학의 기본 반응입니다.

화학 합성

Tris(dimethylamino)silane은 암모니아와 반응하여 질화규소 전중합체를 형성할 수 있으며, 다양한 화학 합성 경로에서 빌딩 블록 역할을 합니다. 저희는 이 고순도 전구체의 신뢰할 수 있는 공급업체입니다.

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